膜层结构
叠层架构:SiO₂+Al₂O₃+Ag+Al₂O₃+TiO₂(五层复合光学干涉膜系)基底兼容:硅片、光学玻璃、石英、柔性聚合物(PET/PI)等工艺制程:多靶连续磁控溅射(PVD物理气相沉积)参数说明:膜层结构与光谱特性可根据实际应用需求进行定制开发
核心优势与综合性能
高透光与热阻隔兼备:利用 TiO₂(高折)与 SiO₂(低折)的折射率匹配,有效减少反射损耗;搭配中间高纯度Ag 功能层,实现高可见光透过与极高红外/热辐射反射
超强抗氧化与防剥落:采用致密纳米Al₂O₃夹层结构,有效阻隔水氧侵蚀,显著抑制银层氧化与硫化;同时作为种子层改善界面结合力,提升附着力,防止膜层剥落
膜层致密与高结合力:采用纳米级多层共溅射工艺,膜层界面清晰、内应力极低,具备优异的附着力和物理机械稳定性
优异的电磁与导电性能:具备低表面方阻特性,可作为高透明度的导电或电磁屏蔽层
典型应用
1. 低辐射(Low-E)节能玻璃:利用Ag层的红外反射特性与TiO₂/SiO₂的干涉效应,用于建筑和汽车玻璃的隔热保温2. 光学滤波器与减反射涂层:利用TiO₂与SiO₂的高/低折射率差构建干涉效应,用于精密光学镜头、滤光片等3. 透明导电薄膜与电磁屏蔽:利用Ag层的高导电性,应用于触摸屏、柔性电子及电磁屏蔽器件4. 自清洁与光催化涂层:利用表面TiO₂层的光催化特性,应用于需要防污、抗菌、自清洁的光学窗口或建材玻璃5. 红外反射与热控涂层:Ag层与TiO₂结合,用于航天器热控系统、红外反射镜等光学部件