2、化合物类薄膜
氟化镁、二氧化钛、二氧化硅、三氧化二铬、氧化铝、氮化钛、氮化铝、氧化铟锡、本征氧化锌、掺铝氧化锌等。
厚度 : 10nm~2000nm ;
镀膜设备:直流/射频磁控溅射,电子束蒸发,原子层沉积等;
薄膜功能:透明导电,减反增透,高反射,绝缘隔离,阻挡保护,耐磨等;
应用:太阳能电池窗口层,增透镜片,反射镜片,芯片工艺阻挡材料,半导体器件绝缘埋层材料,精密机械零部件耐磨层,电致变色玻璃等。